各種類型添加劑的定量測定需要專門的校正技術：線性近似法（LAT）或修正線性近似法可測定光亮劑。稀釋滴定法（DT）可測定抑制劑。
這些分析使用結構簡單、性價比好的旋轉鉑盤電極。在每次測定前，電極需要進行電化學預處理，這已在方法中設置好、并完全自動重復直至測定值穩定。
采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。
電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數來表示并打印出來。這意味著可以準確的調節添加劑濃度。保證了操作的連續性和無干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業所接受。其他方法，如經典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質量的評估而不能測定添加劑濃度。
可調用預置的方法，只需要調整少量參數，就可以開始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業排名前列的企業的鍍液分析。可以上網下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡報（AN），其中有更深入的應用方法。